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武漢鍍銅廠家鍍鉻的工藝特點(diǎn)有哪些 鉻沉積速度很低是什么原因

發(fā)布時(shí)間:2018-12-01

對于武漢鍍鋅、武漢鍍鋅、公司等問題大家已經(jīng)有了了解,那關(guān)于“鍍鉻的工藝特點(diǎn)有哪些 鉻沉積速度很低是什么原因”呢?估計(jì)很多人還不熟悉吧,今天我們就和專家一起熟悉一下!

武漢鍍銅廠家鍍鉻的工藝特點(diǎn)有哪些 鉻沉積速度很低是什么原因

鍍鉻的工藝特點(diǎn)有哪些?武漢鍍鉻公司總結(jié)如下:

1、鉻容易鈍化,因此在很多介質(zhì)中都很穩(wěn)定,但鍍鉻的過程中,陰極會(huì)還原出大量的氫氣,因此造成陰極電流效率特別低.

2、鍍鉻采用有很強(qiáng)氧化性的鉻酐(CrO3),所以在鍍鉻過程中必須加局外離子,如SO42-或F-和Cr3 等,才能實(shí)現(xiàn)沉淀鉻的過程.

3、鍍鉻采用的電流密度很高,比一般鍍種的電流密度高幾十倍,槽電壓也比其他鍍種高出1倍,通常為12V左右.

4、鍍鉻采用鉛-銻或鉛-錫合金作不溶性的陽極.

5、鍍鉻過程中不允許中途停電,溫度和電流都必須很穩(wěn)定.

6、為了保證鍍層具有較強(qiáng)的結(jié)合力,工件較好先清洗除油且預(yù)熱.

7、對復(fù)雜的零件,為了改善深度的能力,在開始通電時(shí),可采用沖擊電流.

8、鍍層在0.25μm是微孔性的,其厚度超過0.25μm,鉻層便出現(xiàn)網(wǎng)狀裂紋,鍍層超過20μm時(shí)鍍鉻,鍍鉻的工藝特點(diǎn)有哪些對基體才能起到機(jī)械保護(hù)作用.

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鉻沉積速度很低是什么原因?鍍鉻廠家分析如下:

1、零件懸掛不恰當(dāng),彼此互相遮擋;

2、陽極和陰極的距離太大;

3、由于計(jì)算表面積發(fā)生錯(cuò)誤和不鍍鉻的地方絕緣不好而使電流密度降低;

4、電解液的溫度太高;

5、硫酸含量太大;

6、鉻酐濃度太大;

鉻沉積速度很低的處理方法,武漢鍍鉻廠家建議如下:

1、改變懸掛的方法;

2、減小陽極跟陰極的距離到30~35mm,較大為50mm。

3、加大電流密度。涂2~3層透明漆膜來絕緣;

4、降低電解液的溫度;

5、根據(jù)分析結(jié)果,利用碳酸鋇、氫氧化鋇或者鉻酸鋇來使過剩的硫酸沉淀。

6、用比重計(jì)檢查,稀釋到正常濃度。

上述鍍鉻的工藝特點(diǎn)有哪些等問題的介紹,對您有幫助嗎?如果有幫助的話,請您繼續(xù)關(guān)注我們公司、武漢鍍鋅、鍍鉻廠家的介紹!

本文關(guān)鍵詞:鍍鉻 工藝 電流 過程 陰極 采用


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