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武汉镀铜公å¸æµ…谈电(sh¨´)é•€å‰å¤„ç†ä¹‹åŒ–学抛光

æ¥æºåQ?a href='http://www.dtmnsl.cn/news/500.html'>http://www.dtmnsl.cn/news/500.html    å‘布旉™—´ : 2020-09-25

    武汉镀铜公å?/a>介ç»åˆ°åœ¨ç”?sh¨´)镀生äñ”¾U¿ä¸ŠåQŒå·¥ä»¶åœ¨ç”?sh¨´)é•€å‰è¿›è¡Œçš„一¾pÕdˆ—å‰å¤„ç†éƒ½æ˜¯äØ“(f¨´)了得到更好的镀层,那么化学抛光在整个å‰å¤„ç†ä¸­ä¹Ÿæ˜¯å¾ˆé‡è¦çš„,下é¢æˆ‘们ž®±æ¥æ­¦æ±‰é•€é“œå…¬å怺†è§£ä¸€ä¸‹ç”µ(sh¨´)é•€å‰å¤„ç†çš„化学抛光ã€?br />     武汉镀铜公å总‹¾l到化学抛光是指在åˆé€‚的溶液中,ä¸ä‹É用外接电(sh¨´)æºï¼Œä¾é åŒ–å­¦‹¹¸èš€ä½œç”¨å¯¹å·¥ä»¶è¿›è¡Œçš„抛光。在化学抛光˜q‡ç¨‹ä¸­ï¼Œç”׃ºŽé‡‘属微观表é¢å½¢æˆäº†ä¸å‡åŒ€çš„é’化膜åQŒæˆ–ç”׃ºŽå½¢æˆäº†ç±»ä¼¼ç”µ(sh¨´)解抛光过½E‹ä¸­æ‰€å½¢æˆçš„稠质é»è†œï¼Œä»Žè€Œä‹É表é¢å¾®è§‚凸出部分的溶解速度昄¡€å¤§äºŽå¾®è§‚凹入部分åQŒå› æ­¤é™ä½Žäº†é›¶äšg的表é¢æ˜¾å¾®ç²—¾p™ç¨‹åº¦ï¼Œä½‰K›¶ä»¶è¡¨é¢æ¯”较光亮和òqÏx•´ã€‚化学抛光广泛应用于ä¸é”ˆé’¢ã€é“œå?qi¨¢ng)é“åˆé‡‘½{‰çš„抛光åQŒè¿˜ç”¨äºŽå¯¹ä¸€äº›é›¶ä»¶åšè£…饰加工。化学抛光å¯ä½œäØ“(f¨´)ç”?sh¨´)é•€å‰çš„处ç†å·¥åºåQŒä¹Ÿå¯åœ¨æŠ›å…‰åŽè¾…以必è¦çš„防护措施而直接ä‹É用ã€?br />     与电(sh¨´)抛光相比åQŒåŒ–学抛光ä¸éœ€è¦ç”µ(sh¨´)æºå’Œå¯¼ç”µ(sh¨´)挂具åQŒå¯å¯¹åŞ状å¤æ‚çš„å„秞®ºå¯¸çš„零件进行抛光,生äñ”效率高。其¾~ºç‚¹æ˜¯æº¶æ¶²ä‹É用寿命短åQŒæµ“度的调整和å†ç”Ÿæ¯”较困难,通常˜q˜ä¼š(x¨¬)æžå‡ºä¸€äº›æœ‰å®Ïx°”体。化学抛光的抛光质é‡ä¹Ÿæ¯”甉|Š›å…‰å·®åQŒè¿™ä¸»è¦æ˜¯å› ä¸ºåœ¨åŒ–学抛光中,ç”׃ºŽæ料的质é‡ä¸å‡åŒ€åQŒä¼š(x¨¬)引è“v局部电(sh¨´)劉K«˜ä½Žä¸ä¸€åQŒäñ”生局部阴é˜ÏxžåŒºï¼Œå½¢æˆå±€éƒ¨çŸ­è·¯çš„微电(sh¨´)池,佉K˜³æžå‘生局部溶解。而在甉|Š›å…‰ä¸­åQŒç”±äºŽå¤–加电(sh¨´)势的作用å¯ä»¥å®Œå…¨æ¶ˆé™¤˜q™ç§å±€éƒ¨çš„阴æžåŒºï¼Œä»Žè€Œè¿›è¡Œå…¨é¢çš„ç”?sh¨´)解åQŒå› è€Œæ•ˆæžœæ›´å¥½ã€?br />     åQ?)抛光液的¾l„æˆå?qi¨¢ng)其他åª?ji¨£ng)å“å› ç´ ã€?br />     ①抛光液¾l„æˆåQšäØ“(f¨´)了ä¿è¯åŒ–学抛光的效果åQŒé¡»ä½‰K‡‘属表é¢æº¶è§£ï¼Œòq¶åœ¨è¡¨é¢å½¢æˆå‰è¿°çš„液体膜或固体膜。化学抛光液的基本组æˆä¸€èˆ¬åŒ…括è…蚀剂ã€æ°§åŒ–剂ã€æ·»åŠ å‰‚和水。其中,è…蚀剂是主è¦æˆåˆ†åQŒä¸»è¦ä‹Éå·¥äšg在溶液中溶解;氧化剂和æ·ÕdŠ å‰‚å¯æŠ‘制è…蚀˜q‡ç¨‹åQŒä‹Éå应æœæœ‰åˆ©äºŽæŠ›å…‰çš„æ–¹å‘è¿›è¡?水对溶液‹¹“度赯‚°ƒèŠ‚作用,便于å应产物的扩散ã€?br />     用作金属溶解的æˆåˆ†ä¸€èˆ¬æ˜¯é…¸ï¼Œå…¶ä¸­ç”¨å¾—较多的是H2S04ã€HN03ã€HC1ã€H3PO。ã€HF½{‰å¼ºé…¸ï¼Œè€Œå¯¹é“é‚£æ ïL(f¨¥ng)š„两性金属,也å¯ç”¨NaOHåQŒåœ¨˜q™äº›é…怸­ç”׃ºŽé«˜æµ“度的¼‚·é…¸å’Œç¡«é…”Rƒ½å…ähœ‰è¾ƒé«˜çš„é»åº¦ï¼Œå¯åÅžæˆæ¶²ä½“膜扩散层,故这¿Uæˆåˆ†å…·æœ‰ä¸¤¿U功能。这也是在化学抛光液的组æˆä¸­ä¸»è¦é‡‡ç”¨¼‚·é…¸å’Œç¡«é…¸çš„原因。äØ“(f¨´)了æ高é»åº¦ï¼Œä½¿æ‰©æ•£å±‚å®ÒŽ(gu¨©)˜“å½¢æˆåQŒä¹Ÿå¯åŠ ˜q›æ˜Žèƒ¶æˆ–甘æÑa(b¨³)½{‰èƒ½æ高é»åº¦çš„添加剂。äØ“(f¨´)了促˜q›å›ºä½“膜的åÅžæˆï¼Œåˆ™éœ€åŠ å…¥ä»¥ç¡é…¸æˆ–铬酸ä¸ÞZ¸»çš„强氧化剂ã€?br />     ②抛光时é—ß_(d¨¢)¼š(x¨¬)化学抛光存在一个最ä½ÏxŠ›å…‰æ—¶é—´èŒƒå›´ã€‚若旉™—´˜q‡çŸ­åQŒåªèƒ½èŽ·å¾—没有光泽的梨皮状表é?若时间过长,ä¸ä»…溶液æŸå¤±å¢žå¤§åQŒè€Œä¸”加工表é¢ä¼?x¨¬)出现污ç‚Ò?gu¨©)ˆ–斑点。而这个时间范围å—ææ–™ã€æŠ›å…‰æ¶²¾l„æˆå?qi¨¢ng)抛光温度等因素的åª?ji¨£ng)å“,通常难以预测åQŒåªèƒ½é€šè¿‡å®žéªŒ‹¹‹å®šã€‚化学抛光中往往åŒæ—¶äº§ç”Ÿæ°¢æ°”åQŒè¿™æ˜¯åœ¨æŠ›å…‰å…ähœ‰æ°¢è„†æ•æ„Ÿæ€§æ料时™åÀL³¨æ„的问题。å¦å¤–抛光液温度高达100~
    200CCæ—Óž¼Œ˜q˜ä¼š(x¨¬)å‘生退ç«ä½œç”¨ã€‚äØ“(f¨´)了把氢脆和退ç«ä½œç”¨çš„å½±å“é™åˆ°æœ€ä½Žï¼Œž®±é¡»åœ¨æœ€é€‚温度范围内选择ž®½å¯èƒ½çŸ­çš„抛光时间ã€?br />

    ③抛光温度:(x¨¬)化学抛光æ—Óž¼Œæº¶è§£é€Ÿåº¦éšç€æŠ›å…‰æ¶²æ¸©åº¦çš„æ高而显ç€å¢žåŠ ã€‚此外,强氧化性的酸在高温时的氧化作用ä¼?x¨¬)å˜å¾—很昄¡€ã€‚在化学抛光中,ç”׃ºŽ˜q™äº›é…¸çš„溶解作用和氧化作用会(x¨¬)åŒæ—¶å‘生åQŒæ•…多数情况下都是把抛光液加热到较高温度æ¥è¿›è¡ŒæŠ›å…‰çš„ã€?

   æ­¦æ±‰é•€é“œå…¬å¸å‘Šè¯‰å¤§å®‰™œ€è¦æ供温度楘q›è¡ŒæŠ›å…‰çš„金属有钢é“ã€é•ã€é“…½{‰ï¼Œè‹¥æ¸©åº¦ä½ŽäºŽæŸä¸€å®šå€û|¼Œž®×ƒ¼š(x¨¬)失去光滑的è…蚀表é¢åQŒæ•…存在一个åÅžæˆå…‰æ³½é¢çš„äÍ(f¨´)界点åQŒåœ¨ä¸´ç•Œç‚¹ä»¥ä¸Šçš„温度范围内抛光效果较好。而这个温度范围åˆå› æ¶²ä½“çš„¾l„æˆä¸åŒè€Œå¼‚åQŒå¦‚果高于这个温度范å›ß_(d¨¢)¼Œä¼?x¨¬)åÅžæˆç‚¹èš€ã€å±€éƒ¨æ±¡ç‚ÒŽ(gu¨©)ˆ–斑点åQŒä‹É整个抛光效果é™ä½Žã€‚此外,温度­‘Šé«˜åQŒæ料的溶解æŸå¤±ä¹Ÿè¶Šå¤§ã€?br />     (2)é“œåŠ(qi¨¢ng)å…¶åˆé‡‘的化学抛光。铜和å•ç›”R“œåˆé‡‘å¯åœ¨¼‚·é…¸ä¸€¼‹é…¸ä¸€é†‹é…¸æˆ–ç¡«é…怸€¼‹é…¸ä¸€é“¬é…¸åž‹æº¶æ¶²ä¸­˜q›è¡ŒåŒ–学抛光
    在ä‹É用过½E‹ä¸­éœ€¾l常补充¼‹é…¸åQŒæŠ›å…‰æ—¶å¦‚果二氧化æÛæžå‡ºè¾ƒå°‘åQŒé›¶ä»¶è¡¨é¢å‘ˆæš—黄色时åQŒå¯æŒ‰é…¾|®é‡çš?/3补充¼‹é…¸ã€‚äØ“(f¨´)防止˜q‡é‡çš„水带入槽内åQŒé›¶ä»¶åº”òq²ç‡¥åŽå†æŠ›å…‰ã€?br />     (3)é“åŠ(qi¨¢ng)é“åˆé‡‘的化学抛光。äØ“(f¨´)获得光亮的表é¢ï¼Œ™åÖM¸¥æ ¼æŽ§åˆ¶æŠ›å…‰æ¶²¼‹é…¸çš„å«é‡ã€‚ç¡é…¸å«é‡è¿‡ä½Žï¼ŒæŠ›å…‰é€Ÿåº¦æ…¢ä¸”抛光åŽè¡¨é¢å…‰æ³½æ€§å·®;¼‹é…¸å«é‡˜q‡é«˜åQŒå®¹æ˜“å‘生鳞状è…蚀。磷酸浓度低æ—Óž¼Œä¸èƒ½èŽ·å¾—光亮的表é¢ï¼Œä¸ÞZº†é˜²æ­¢æº¶æ¶²è¢«ç¨€é‡Šï¼ŒæŠ›å…‰å‰çš„零äšg表é¢åº”干燥。醋酸和¼‹«é…¸å¯ä»¥æŠ‘制点状è…蚀åQŒä‹É抛光表é¢å‡åŒ€ã€ç»†è‡´ã€‚ç¡«é…”R“µå’Œå°¿ç´ å¯ä»¥å‡ž®‘氧化æÛçš„æžå‡ºï¼Œòq¶æœ‰åŠ©äºŽæ”¹å–„抛光质é‡ã€‚å°‘é‡çš„铜离å­å¯ä»¥é˜²æ­¢è¿‡è…蚀åQŒä»Žè€Œæ高抛光表é¢çš„å‡åŒ€æ€§ï¼Œä½†å«é‡è¿‡é«˜åˆä¼?x¨¬)é™ä½ŽæŠ›å…‰è¡¨é¢çš„å光能力。铬é…å¯ä»¥æ高é“锌铜åˆé‡‘的抛光质é‡ï¼Œå«é”Œã€é“œä¸é«˜çš„强度é“åˆé‡‘在ä¸å«é“¬é…的抛光液中åQŒéš¾ä»¥èŽ·å¾—光亮的表é¢ã€?br />     武汉镀铜公å总‹¾l到¾l化学抛光的零äšgåQŒä¸€èˆ¬åº”在室温下äº?00â€?00g/Lçš„ç¡é…怸­æˆ–在100~200g/L的铬é…溶液中åQŒæµ¸æ¸æ•°¿U’至数å¿U’,以除去表é¢çš„接触铜ã€?br />

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